|
|
 |
近年、多孔質シリコンに関しての研究開発活動が盛んに行なわれています。 主な理由は、多孔質シリコンが光デバイス、ガスセンサー、医学デバイスなどの広範な用途で大きな将来性を秘めているからです。
新素材開発には良くあることですが、多孔質シリコンの開発の難問は、様々な材料のパラメーターの特性の評価する装置を決めることです。 多孔質シリコンで最も根本的なパラメーターは膜厚と多孔度です。
その他の重要なパラメーターは、処理済みの層に関するもので、材質中の浸透率やセンサーデバイスでの吸着分子量があります。 フィルメトリクス社では独自の解析アルゴリズムを開発し、ワンクリックで多孔質シリコンの膜厚、屈折率、多孔度の測定が出来ます。
|
|
|
