F30シリーズ

薄膜成膜プロセスの監視に最適システム

F30分光反射率システムでリアルタイムのデポジション率、膜厚、光学定数(屈折率と消衰係数)、半導体と誘電体層の均一性を測定します。

汎用な測定例

MBEとMOCVD成膜 : 滑らかな半透明膜、もしくは少し光吸収性がある膜を測定することができます。 主にはAlGaN、GaInAsPなどの半導体材料の測定に用いられてます。

利点

  • 生産性の大幅な向上
  • 経済的 ‐ 数ヶ月間で投資を回収
  • 精度 ‐ 誤差は±1%以内
  • 高速 ‐ 瞬時に測定
  • 非侵襲 ‐ 全てチャンバーの外に設置可能
  • Windows™上に簡単に使えるソフトウェア
  • 数分で設置可能なターンキーシステム

モデル仕様

*膜材料その他の条件により異なります
モデル 膜厚測定範囲* 波長範囲
F30 15nm-70µm 380-1050nm
F30-EXR 15nm - 250µm 380-1700nm
F30-NIR 100nm - 250µm 950-1700nm
F30-UV 3nm-40µm 190-1100nm
F30-UVX 3nm - 250µm 190-1700nm
F30-XT 0.2µm - 450µm 1440-1690nm
F30-XXT 5µm-3mm 1520-1580nm

主なオプション