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MEMSやその他のデバイスの開発や製造での課題の1つは、SU-8又その他の厚膜フォトレジストの膜厚測定です。スピン コーターでの膜付けは簡便で高速ですが、所望の膜厚サンプルを作るのには不正確な方法です。 露光時間はレジストの膜厚に依存するため、正確な膜厚測定が必要です。 さらに、ポジ・ネガフォトレジストを共に使用して複雑な複層構造を作成するには、各層の厚みを把握することは非常に重要です。
フィルメトリクス社は、SU-8などのフォトレジストの膜厚を測定する幅広い卓上膜厚システム(F20 と、膜厚 F20-XT) に 膜圧マッピング 機能を有したF50を取り揃えています。 単一層、複層、さらには自立膜(freestanding film)の測定が可能です。 フィルメトリクス社の装置は、反射スペクトラムを弊社独自のアルゴリズムで解析し、ワンクリックで膜厚と屈折率を算出します。 |
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