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膜材料: ある程度透明なフィルム、又は全ての半導体の膜（透明、不透明） 。少しは表面に光沢があること。
膜厚測定範囲： 1nmから1mmまでの膜厚の測定が可能。 屈折率の測定は膜厚70nmから10umまで可能。
層の数： 通常重なった3層の個々の膜の測定が可能。 場合によって十層程度の測定も可能。
基板材料: 表面粗さがある基板上に膜がある場合（金属を含む)、膜の屈折率の測定は通常不可能。 また、表面粗さがある基板は測定可能な最小膜厚を約50nmに制限。
必要な情報： 測定する膜か否かに関わらず、全ての膜の順番、膜の材料、想定される膜厚値の情報が必要です。
測定に関するお問い合わせ は弊社の技術担当者までお寄せください。
フィルメトリクス社では 無料でサンプル測定 を実施しています。 |
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