測定対象

膜: ある程度透明な膜、又は全ての半導体の膜(透明、不透明)。少しは表面に光沢があること。

膜厚測定範囲:1nmから13mmまでの膜厚の測定が可能。屈折率の測定は膜厚70nmから10umまで可能。

単位 膜厚測定範囲
最低 最高
Å 10 10^8
nm 1 10^7
0.01 10^5
µm 0.001 10000
µm-in 0.04 40^4
mils 0.00004 400
mm 10^-6 10
g/cm^2 10^-7 1

膜厚が10nmを超える膜の屈折率も測定可能です (膜質により異なります)。

膜層の数:通常3層の個々の膜の測定が可能。 場合によって十層程度の測定も可能。

基板材料:表面に粗さがある基板上に膜がある場合(金属を含む)、膜の屈折率の測定は通常不可能。 また、表面に粗さがある基板は測定可能な最小膜厚を約50nmに制限。

必要な情報:測定されるか否かに関わらず、全ての膜の順番、膜の材料、想定される膜厚値の情報が必要です。

測定に関するお問い合わせは弊社の技術担当者までお問い合わせください。

フィルメトリクスでは 無料でサンプル測定を実施しています。