R50/R54シリーズ

シート抵抗のマッピング

フィルメトリクス Rシリーズマッピングツールは、KLAが45年以上かけて開発し完成させたシート抵抗技術と、フィルメトリクスチームが20年以上かけて改良したベンチトップ装置技術およびユーザーインターフェイスを融合させています。

薄い金属層やイオン注入層には接触型の4探針法を、厚い金属層や柔らかい又は可とう性のある導電性表面には非接触型の渦電流方式を推奨しています。これらの技術は、以下を含むがこれに限定されない幅広い測定をサポートします。
  • 金属膜および裏面層の厚み測定
  • 基板抵抗率
  • シート抵抗
  • 薄膜の厚みまたは抵抗率
  • シートおよびバルクの導電率
フィルメトリクスR50は、様々な種類のサンプルに対応できるように広いクリアランスを持ち最適化された設計になっており、長方形、線形、極座標等のカスタム仕様の自動サンプルポイントマッピングが可能です。
KLA Instruments™ シリーズは、R50の測定性能をそのままに、半導体および化合物半導体ウェハーの200mmまたは300mmウェハーマッピング用自動X-Y-θステージをサポートする機能を追加し、光密閉型の筐体に収めたシステムです。 詳細はこちら→

モデル仕様

機種 センサータイプ 測定範囲 最大マップ径 XYステージの範囲 最大試料高さ
R50-4PP 接触式4探針 1mΩ/sq - 200MΩ/sq 100mm 100mm x 100mm 100mm
R50-EC 非接触型渦電流 1mΩ/sq - 50Ω/sq 100mm 100mm x 100mm 100mm
R50-200-4PP 接触式4探針 1mΩ/sq - 200MΩ/sq 200mm ラウンド 200mm x 200mm 100mm
R50-200-EC 非接触型渦電流 1mΩ/sq - 50Ω/sq 200mm ラウンド 200mm x 200mm 100mm
R54-200-4PP 接触式4探針 1mΩ/sq - 200MΩ/sq 200mm x 200mm 100mm x 100mm 15mm
R54-200-EC 非接触型渦電流 1mΩ/sq - 50Ω/sq 200mm x 200mm 100mm x 100mm 15mm
R54-300-4PP 接触式4探針 1mΩ/sq - 200MΩ/sq 300mm ラウンド* 200mm x 200mm 15mm
R54-300-EC 非接触型渦電流 1mΩ/sq - 50Ω/sq 300mm ラウンド* 200mm x 200mm 15mm

シート抵抗・その他測定用途

  • 半導体ウェハー基板
  • ガラス基板
  • プラスチック(柔軟性のある)基板
  • プリント基板の配線パターン
  • 太陽電池
  • フラットパネルディスプレイ層および配線パターン
  • 金属箔
  • 導電性ラバー&エラストマー