測定対象
分光反射率
膜: ある程度透明な膜、又は全ての半導体の膜(透明、不透明)。少しは表面に光沢があること。
膜厚測定範囲：1nmから3mmまでの膜厚の測定が可能。屈折率の測定は膜厚70nmから10umまで可能。
| 単位 | 膜厚測定範囲 | |
|---|---|---|
| 最低 | 最高 | |
| Å | 10 | 10^8 |
| nm | 1 | 10^7 |
| kÅ | 0.01 | 10^5 |
| µm | 0.001 | 10000 |
| µm-in | 0.04 | 40^4 |
| mils | 0.00004 | 400 |
| mm | 10^-6 | 10 |
| g/cm^2 | 10^-7 | 1 |
膜厚が10nmを超える膜の屈折率も測定可能です (膜質により異なります)。
膜層の数：通常3層の個々の膜の測定が可能。 場合によって十層程度の測定も可能。
基板材料:表面に粗さがある基板上に膜がある場合(金属を含む)、膜の屈折率の測定は通常不可能。 また、表面に粗さがある基板は測定可能な最小膜厚を約50nmに制限。
必要な情報：測定されるか否かに関わらず、全ての膜の順番、膜の材料、想定される膜厚値の情報が必要です。
光学式形状測定
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