誘電体
数千もの誘導体膜は光学、半導体、そして数多くの産業で使用されています。当社は事実上それら全ての計測が可能なシステムを取り揃えています。以下が最も頻繁に使用されている例です:
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SiO2-シリコン二酸化物は最も計測が簡単な材質の一つであり、それはシリコン二酸化物が主にほとんどの波長において非吸収性(K=0)を持ち、大抵化学量論(すなわち、ケイ素:酸素の割合がほぼ正確に1:2の割合)に非常に近いためです。熱により作られたSiO2は特に正常に動作し、主に厚さや屈折率標準として使用されます。フィルメトリクスのシステムをお使いいただけば、3nmから 1mmの厚さのSiO2を計測することができます。
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Si3N4―窒化ケイ素膜の測定は他の多くの誘導体と比べ非常に困難なものであり、それは膜のケイ素:窒素の割合が3:4になることが稀であり、そのため大抵の場合膜厚の測定と共に屈折率を計測しなければならないからです。更に困難なことには、酸素がよく意図せずに膜に組み込まれ、ある度合いのシリコン窒化物を作っていることです。当社のシステムは測定ボタン一つで瞬時にSi3N4膜の特性を完全に評価することができます。
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フィルメトリクスは 無料お試し測定を行っています。 - 結果は通常1～2日です。
測定例
窒化ケイ素膜は誘電体、不活性化層、又はマスク材料として半導体産業で広く用いられています。このサンプルではF20-UVXシステムを用い、シリコン上のSixNy薄膜の膜厚、屈折率、消衰係数が測定されました。興味深いことに、SixNy膜の光学特性は膜の化学量論と関係付けられます。フィルメトリクスF20-UVXと独自の窒化ケイ素分散モデルにより、シリコン含有量が多くても少なくても、又は化学量論的でも、SixNy膜の膜厚と光学特性を容易に測定することが出来ます。測定セットアップ:
F20-UVXとRP-1-UVプローブ
使用されたレシピ:
測定結果:
